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      MOCVD(金属有机化学气相沉积)设备是LED产业链上游核心设备,也是高亮度LED芯片生产过程中最关键的设备。MOCVD设备能提供生长发光晶体结构所需满足的各种条件,包括温度、压力、化学气体组分等。化学气体通入MOCVD设备反应腔中,在特定的温度和压力环境下在衬底(通常为蓝宝石)表面进行反应,沉积出LED发光晶体结构,从而得到用于制造LED芯片的外延片。MOCVD设备是当前及今后较长一段时期内生产LED外延片的首选设备。
通过先进的、具有自主知识产权的反应室技术,中科宏微公司的HiCRO®系列GaN MOCVD可以提供目前国内最稳定的及唯一经过生产验证并实现产业化生产的自动化MOCVD平台。HiCRO®系列GaN MOCVD系统是一种开放性、可扩展的平台。通过调整反应腔体和源模块,该系MOCVD系统可以用于GaN 基蓝光、绿光 LED 和蓝光激光器的量产。
1、HiCRO®系列GaN MOCVD设备具有优秀的可靠性和重复性
2、具有自主知识产权的顶盘能在生长室内形成均匀的三族/五族源的流体场,从而获得很好的晶片均匀性和极佳的工艺重复性。
3、完全自主研发的控制系统采用DeviceNet协议实现了设备的全自动运行;高度的自动化降低了生产时间,提高了生产效率。
4、HiCRO®系列GaN MOCVD系统的主体部分、关键部件、易消耗部件,以国内采购和加工为主;这使得在保证设备可靠性的同时提供了最低的购置成本。
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